ASML宣布全新半导体技术:5nm工艺产能大增600%

摘要: 作为制造芯片的核心器件,光刻机自然是重中之重,而一款性能出众的光刻机也是制造高性能芯片的必要条件,而在光刻机领域尤其是高端光刻机,目前基

作为制造芯片的核心器件,光刻机自然是重中之重,而一款性能出众的光刻机也是制造高性能芯片的必要条件,而在光刻机领域尤其是高端光刻机,目前基本上被ASML所垄断,而ASML也提供给包括英特尔、台积电以及三星等晶圆代工厂提供最新的EUV光刻机。目前随着技术的进步,越来越多的晶圆代工厂商开始研发和量产5nm工艺,如今ASML宣布将会采用全新的技术,从而让5nm晶圆的产品成倍提升。

今天ASML宣布正式发布第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000,这个检测机可以适用于5nm及更先进工艺,使得产能大涨600%。根据ASML的介绍,HMI eScan1000实际上是一套能够验证先进工艺生产出来的晶圆质量的系统,它的作用就是检测制造出来的晶圆能够符合要求和预期。

全新的多光束检测机HMI eScan1000能够同时生产和控制九道电子束,检测性能提升了600%,因此晶圆的制造能力也得到了极大的提升,此外HMI eScan1000不单单能够检测5nm工艺的产品,同时也能够为今后的更先进的工艺做准备,而现在这款产品也得到了客户的认可,目前已经在陆续测试。

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